半導體用去離子水設備工作原理及處理過程，中天恒遠編輯李德馨認真總結整理了相關的知識，下面為大家詳細講解一下，希望對您有所啟發。
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半導體用去離子水設備工作原理及處理過程，小編聽取根據技術人員的介紹，認真整理總結了一下，為您詳細介紹
一，半導體用去離子水設備工作原理
種：一般通過陽陰離子交換樹脂取得的去離子水，出水電導率可降到10us/cm以下，再經過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水成本極高，而且顆粒雜質太多，達不到理想的要求。目前已較少采用了。
第二種：預處理(即砂碳過濾器+精密過濾器)+反滲透+混床工藝這種方法是目前采用比較多的，因為反滲透投資成本也不算高，可以去除90%已上的水中離子，剩下的離子再通過混床交換除去，這樣可使出水電導率：0.06左右。這樣是目前比較流行的方法。
第三種：前處理與第二種方法一樣使用反滲透，只是后面使用的混床采用EDI連續除鹽膜塊代替，這樣就不用酸堿再生樹脂，而是用電再生。這就徹底使整個過程無污染了，經過去離子水設備處理后的水質可達到15M以上。但這這種方法的前期投資比較多，運行成本低。
二，半導體用去離子水設備處理過程
先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質，然后高壓通過反滲透膜，分離出溶劑與溶液。比較后一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物。假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程，比較高電阻率可達到18兆。半導體行業中用的大多數是高純度的去離子水。
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