集成電路EDI超純水設(shè)備清洗污垢的方法，中天恒遠(yuǎn)編輯李德馨認(rèn)真總結(jié)整理了相關(guān)的知識(shí)，下面為大家詳細(xì)講解一下，希望對(duì)您有所啟發(fā)。
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集成電路EDI超純水設(shè)備清洗污垢的方法，小編聽取根據(jù)技術(shù)人員的介紹，認(rèn)真整理總結(jié)了一下，為您詳細(xì)介紹
一，倒換電極
可以有效地減輕膜及陰極上的水垢，一般水垢沉積在濃水室陰極表面上，倒換電極后，濃水室、淡水室相應(yīng)倒換造成水垢的不穩(wěn)定狀態(tài)，因而可以減輕結(jié)垢。
二，酸洗
是消除沉淀的有效方法，水垢積到一定程度，就需要進(jìn)行酸洗，酸洗一般采用循環(huán)酸洗，濃水，淡水和極水室一次酸洗的方法。
三，堿洗
酸洗不能取出有機(jī)沉淀物，對(duì)于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗，使有機(jī)物消除，堿洗可以利用酸洗系統(tǒng)進(jìn)行，一般不另設(shè)裝置。
四，定期拆洗
采用上述方法不能回復(fù)除鹽率時(shí)，應(yīng)把EDI膜堆拆開清洗，重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。
集成電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)采用的是比較流行的EDI膜塊制水工藝，比較終出水電阻率能夠達(dá)到18兆歐以上，與此同時(shí)，集成電路EDI電除鹽系統(tǒng)的出水中還不會(huì)含有任何的細(xì)菌以及微生物，所以使用該種電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)作為供水系統(tǒng)的企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量一定是符合標(biāo)準(zhǔn)的。
集成電路EDI超純水設(shè)備清洗污垢的方法就介紹到這里了，如果想了解更多相關(guān)的知識(shí)，請(qǐng)關(guān)注我們的官網(wǎng)。
