超純水處理設備在光學領域中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高.在生產中,高純水主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同.
清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物,使工件表面達到一定的潔凈程度.清洗過程是清洗介質、污染物、工件表面三者之間相互作用,是一種復雜的物理過程,清洗不僅與污染的性質、種類、型態以及粘附程度有關.與清洗介質的理化性質、清洗性能、工件的材質、表面狀態有關、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附加的超聲振動、超純水處理設備振動等因素有關.
超純水處理設備在光學中的應用
傳統的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等,而超聲波純水清洗是目前社會公認的比較先進的清洗方式.清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電.在電子管生產中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含奇有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品.在黑白顯象管熒光屏生產的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產一個晶體管需用純水80kg.液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質,就會使液晶顯示電路發生故障,影響液晶屏質量,導致廢、次品.
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